干法刻蚀工艺与设备技术讲座
Ø主题：干法刻蚀工艺与设备
Ø内容：ICP、RIE、DRIE工艺与设备
Ø对象：感兴趣的研究生
Ø时间：2010-11-10，下午 2:30-4:00
Ø讲座地点：科技园西五楼 A328
Ø现场讲解地点：1楼洁净室
Ø讲座人：王久洪
附件大小
Gan_Fa_Ke_Shi_Jiang_Zuo_Tong_Zhi_.ppt
2.45 MB
地址：陕西省西安市咸宁西路28号 邮编：710049 中国·3044am永利集团-www.3044noc.com 版权所有 站点维护： 网络信息中心 陕ICP备06008037号
